微波暗室的静态性业绩评估和影响因数分析

引 言

静态区是指室内电场的同质性符合规格的空间区,并评价暗室静态的性能指标是否令人满意,主要参考指标是反映电水平。 静态反射水平的当前测量方法主要包括两种方法,即SWR方法和天线图比较[1-2]。 在实际测量中,采用VSWR方法更为可取。 目前没有标准和规范可以用来评价微波室静反射度的测量标准,在实际测量中,微波室的静态性能可能受到暗室环境和测量系统误差等因素的影响,这些因素无法准确评价微波室的静态性能。

1 测量静反射水平的流程和程序

如图1所示,微波暗室性能测量系统根据功能分为三个要素:

(1) 信号发射组件包括作为信号源的发射天线、交换台和升降杆。

(2) 接收天线、总机、扫描仪和光谱仪包括信号接收部分。

(3) 控制部分由控制计算机、扫描仪控制器、无线电频率电缆、网络线路和其他部件组成。

在通过发射天线发射信号源后,接收天线交换台由计算机控制,接收信号电水平参数实时记录在光谱仪上,完成对测试数据的统计处理和结果分析。

在微波室区域之后,以垂直轨迹为例,当接收天线以与极化相同的方式指向发射天线时,接收天线扫描仪被控制沿着轨道飞行,通过等待区。

调整接收天线的方位角,沿行程线重新扫描,并获得一个显示直到反射波与反射波之间干扰的加速曲线。今后,从暗室墙壁反射信号形成的复合曲线将添加到电解 d 中,并在两个信封曲线b-b和c-c[2-5]的数据后处理中为其准备,其中:

R 是 dB 介质; 曲线 d- d 是 b 和 c ; D 是 dB 完整课程线上发现的最大包件宽度; Er 是 V 中强烈的对应反射场; Ed 是 V 中强烈的直线范围。 等距 b- b 和 c 的轮廓也是数据处理的最重要组成部分, 等距的轮廓表示测量的实际范围 。

接收天线的方位角和两极分化的修改重复了前述程序,获得了测量整个垂直轨迹的结果,对水平曲轨和垂直轨迹的测量以类比方式进行,然后是VSWR测量整个静态反射对等物的技术。

图3显示暗室中180°静态反射水平的测量情况。定点区域范围为1米x1米x1米,频率为3千兆赫,行程线为垂直,方位角为180°,角为水平对齐,角为0°,需要静态反射水平为-35dB,测量结果为-35.9。

图4描述了暗室120°静态反射水平的测量情况。定点区域范围为1米x1米x1千兆赫;频率为1千兆赫;行程线为水平;北极角为120°;水平两极为0°;频率要求地震区35 dB的反射水平;测量结果为-46.6 dB。

2 影响因素和解决办法分析

与理论研究和模拟相反,微波暗室中的区性绩效指标受到暗室环境和测量系统不确定性等因素的影响,在提出全面分析评估的衡量指标时应考虑这些因素[6-8]。

微波室本身的现场特征,以及人的因素,影响静态反电水平的测量。测量过程中,隐蔽的门没有关闭,吸附材料的展示不均或极不一致,造成不必要的反射和分散,暗室中也应避免出现任何不必要的物品,将铜网或铜沙存放在微波室本身的穿洞式需要的电位上,以及人为因素影响静态反电水平的测量。测量过程中,隐蔽的门没有关闭,吸附材料的展示不均或极不一致,造成不必要的反射和分散,也应避免在暗室中出现任何不必要的物体,将铜网或铜沙放置在穿孔中。

为了限制墙壁、天花板和地面对微波暗室性能测量系统的影响,应使用高增益天线[10],而接收天线和接收天线应根据频率进行调整。

发射天线交换台的高度和角度可以调和,并具有锁定功能,接收天线扫描仪的最小长度价值应足以满足国家军事信标的频率要求,同时控制软件数据收集,以便每隔不超过最低干涉波周期的八分之一的时间记录数据。 天线交换台和扫描仪应尽可能选择非金属穿透材料,同时避免表面接触和在测试前放置吸附材料。 天线应配备载重能力,在低频范围内,用于测量的天线大小应大,一般为10公斤质量,天线架的变形更严重,没有考虑到重力效应,导致角度倾斜变化,并影响测量的准确性。 设备的位置和空间位置也应在测试系统的组装过程中加以校准,以防止因安装错误而造成测量错误。

还应在数据收集和处理过程中解决测量系统控制器机械结构的延误问题,特别是在高频段,在高频段,数据收集和处理过程中也应解决测量系统控制器机械结构的拖延问题,在高频段,数据收集步骤的长度相应缩短,正确留出动力驱动器的开始和结束时间,扫描处理线的长度适当延长,在后处理阶段消除剩余数据,以便在数据收集和处理过程中解决测量系统控制器的合适机械结构问题,特别是在高频段,数据收集步骤的长度相应缩短,动力驱动器的开始和结束时间正确留出,扫描处理线的长度适当延长,在后处理阶段消除剩余数据,以便在处理阶段消除剩余数据,以便

一般而言,如果暗室尺寸增加,宁静度将相应增加,扫描轨道应配置多段,以便利随后的调整,不应忽视相邻轨道之间的顺利性,所测量的区域中心应远离地面几米。 鉴于一般微波暗室性能测试系统的复杂性及其整个运输和拆解,部分材料的选择应根据更多光材料和研磨材料的电气性能指标的满意度。 微波暗室还应配备升降平台,一旦确定了静静区,在测量期间应确保鼻吸材料的覆盖。

3 结 语

可使用GJB 6780-2009微波暗室性能测试方法衡量和评估微波暗室性能指标,但对于微波暗室性能测试系统而言,没有适用的总体系统性能测试规范和标准,只有参照相关标准才能有选择地评估系统的一个特定组成部分,而且由于耗时和繁琐的测量过程,测量程序很困难,测量结果可能与预测结果略有不同,复制的可能性较小,需要全面验证、研究和开发用于微波暗室的性能测量系统和设备,随着新技术和新需求的引进,该领域的测试需求将扩大。

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