放心，摩尔定律还好好的：台积电5nm工艺分析
最后更新：2020-03-26 13:29:07 手机定位技术交流文章
最近，维基百科根据2019年技术会议、2020年IEDM和ISSCC会议上披露的信息，分析了台积电的5纳米制程。好消息是摩尔定律仍然有效:与7纳米过程相比，标度比为1.84。根据摩尔定律，半导体芯片的晶体管密度每两年翻一番根据维基百科的分析，TSMC的5纳米工艺每平方毫米有1.713亿个晶体管，相比之下，7纳米工艺每平方毫米有9120万个晶体管。回顾五年前的16纳米工艺，每平方毫米的晶体管数量是2888万在过去的5年里，TSMC成功地延续了摩尔定律
与英特尔相比，14纳米++工艺的晶体管密度约为每平方毫米3722万，而10纳米工艺的晶体管密度达到每平方厘米1亿从晶体管密度来看，英特尔的10纳米的确与TSMC的7纳米差不多，但TSMC去年秋天宣布，它正准备大规模生产5纳米，并将在大约1.5年内保持领先优势。
TSMC将在新建的Fab 18中批量生产5纳米芯片，苹果等公司将成为第一批客户N5是TSMC第一个直接为EUV光刻设计的工艺。在此之前，N7工艺分支仅在单个层上应用EUV在EUV的帮助下，TSMC N5所需的光掩模数量从大约115个减少到大约80个，降低了掩模开发和制造的成本。
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