国产光刻机步履维艰，中国已投入3387亿扶持，未来该如何破局？

“我们不生产水，我们只是大自然的搬运工，”一家生产矿泉水的公司的口号呼应了半导体公司的想法。由于TSMC的市场价值在2017年成为全球最大，像美国的英特尔这样的半导体公司只能紧随其后。在首席执行官张忠谋的领导下，TSMC走上了芯片代工的道路，成为苹果、高通和华为开发自己芯片不可或缺的代工企业。然而，OEM巨头TSMC的芯片制造设备对美国有很大的依赖。在美国对华为的压力下，为了防止中兴事件再次发生，华为的芯片制造已经逐渐转向国内芯片制造企业。

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华为会转向国内供应链削减TSMC生产的5种纳米芯片的订单吗？

据有关资料显示，目前华为海斯公司已经切断了向TSMC交付5纳米芯片的订单数量，但目前只有TSMC和三星获得了5纳米加工技术。至于华为是否想支持国内芯片供应链，除了屏幕，我们不知道。按照目前国际半导体的形式，华为还必须建立一个可靠的国内芯片供应链。目前，华为为自己的手机新开发的14纳米麒麟710A芯片是CIMC国际在合同基础上生产的芯片。这只是华为从设计国产芯片到制造国产芯片的第一步。CIMC国际公司生产芯片的关键设备是“光刻机”。

SMIC已经签约华为麒麟710A 14纳米芯片，并有能力进行大规模生产。

与TSMC自身的性质相似，SMIC也是世界先进的芯片铸造企业之一。自2000年成立以来，经过十年的发展，SMIC已成为中国最大、技术最先进的芯片加工企业。SMIC之所以能与华为签订14纳米芯片合同，是因为它已经掌握了14纳米加工技术并实现了大规模生产，这也是中国高端半导体行业的一个里程碑。不仅如此，SMIC目前正朝着7纳米芯片的方向努力，而且还花费了8.4亿元人民币从ASML订购了一台紫外线光刻机，以在7纳米技术上取得突破。

两年前SMIC从ASML订购的8.4亿台EUV平版印刷机还没有到货。

然而，令所有人惊讶的是，两年后，极其昂贵的芯片处理设备仍然没有交付，并且由于美国最近的困难，其交付仍然很遥远。那么为什么EUV光刻机卖天价，它和普通的DUV深紫外光刻机有什么不同呢？在将硅片加工成芯片的过程中，最重要的一步是紫外线照射。在光刻机的激光器和能量控制器准备好之后，印刷有芯片电路的光掩模已经被放置在光掩模台上。在紫外线曝光下，掩模上的电路将被投影到曝光台上的晶片上，并且晶片已经涂有光敏光致抗蚀剂，然后芯片设计电路将被蚀刻在晶片上。

什么不同于普通的DUV深紫外光刻机EUV光刻机？

光刻机激光器发出的紫外光对芯片加工工艺有着关键的影响，芯片加工精度的提高与光源的波长密切相关。目前，应用最广泛的芯片加工光刻机是DUV深紫外光刻机。该光刻机的波长从436纳米逐渐减小到193纳米。然而，这种用于芯片加工的光刻机的极限是7纳米。用更短的波长进一步发展DUV是极其困难的。因此，ASML最终选择了更换光源，并开发了一台13.5纳米的极紫外光刻机。此外，世界上只有一家公司掌握了EUV光刻制造技术。它的垄断自然决定了EUV光刻机的高价。

SMIC上个月初交付的光刻机不是EUV极紫外光刻机

上个月初，SMIC收到了ASML公司的一台光刻机，引起了很大的反响。然而，值得注意的是，这台光刻机不是EUV极紫外光刻机，而是DUV深紫外光刻机。SMIC希望在7纳米以下芯片的开发上取得成就。可以说，ASML的EUV光刻机发挥了关键作用。虽然国产光刻机精度不高，但也在稳步发展。现在中国的光刻机取得了一些突破。从上个月开始，中国的安森半导体公司在大约一个月的时间里相继发运了两台光刻机。其本地化率高达70%，并已交付使用。

中国安森半导体公司在大约一个月的时间里生产并交付了两台70%的国产光刻机。

第一台光刻机的目的地是海康威仕，主要用于制造耳温计。第二台光刻机由国内一家研究所用于互补金属氧化物半导体领域的研究。从改造光刻机开始的企业已经转向发展国产光刻机。两台光刻机的装运无疑会让每个人耳目一新。目前，我国国产光刻机的总体水平约为90纳米。中国科学院在22纳米光刻机技术方面取得了一些进展。光刻机的研发只能依靠技术的逐步积累。目前，中国国家集成电路产业基金前期投资3387亿元，支持国内芯片、光刻等半导体产业的发展。未来国内光刻机的研发还有很长的路要走，我们将有时间见证。

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