国产芯片龙头18年追赶之路，中芯国际将年底试产7纳米

但是现在好消息是，中国最大的半导体制造商SMIC将在今年第四季度大规模生产14纳米，并试生产7纳米。预计明年也将正式批量生产，称EUV不会被使用。

SMIC已经规划了N+1和N+2制造流程新的制造工艺N+1是14纳米的后继工艺，其性能比14纳米高出近20%，这也被称为7纳米制造工艺的开始。此外，N+2过程更为突出，也被称为第二代7纳米过程。

TSMC和三星也在开发7纳米过程中开发了3个过程SMIC的新制造工艺不是直接以节点命名的。这也可能是发展7纳米战略的新想法的一部分。中间的核心表明这两个过程都可以在没有EUV光刻机的情况下完成。如果明年7纳米可以在没有EUV设备的情况下大规模生产，那将是一个好消息。

值得注意的是，SMIC目前大规模生产的最先进的制造工艺是第一代14纳米鳍片场效应晶体管工艺。该工艺已在生产中成熟，生产能力已逐步提高。2019年第四季度，SMIC贡献了1%的收入。如果你有最新的EUV光刻机，这意味着SMIC有能力生产7纳米芯片，SMIC和TSMC之间的代沟越来越小。SMIC与梁梦松和光刻机将跨越10纳米世代发展7纳米。

但是现在，由于美国的干涉，SMIC还没有能够获得最新的7纳米EUV光刻机，所以它只能遵循三个步骤，逐步向7纳米的成熟过程靠拢。你怎么想呢?

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