国产光刻机的崛起，面临3大难题！一旦攻克，国产芯片未来可期

光刻机是制造半导体芯片的核心设备之一，国内芯片代工企业之所以制造工艺落后，很大的原因在于，生产过程中没有高端光刻机设备支持。而且，因为该设备存在技术壁垒的缘故，一般很难从海外市场买到，中兴国际两年前订购的EUV光刻机就拖到今年，还没有交货。

当然，国内并非是没有生产光刻机的厂商存在。上海微电子就是国内光刻机生产领域的佼佼者，但上海微电子的光刻机仅服务低端市场。在笔者看来，国产光刻机想要崛起，至少要解决三大难题。

第一：突破技术封锁

虽然最近两年我国半导体市场喜报连连，不少技术甚至已经达到世界顶尖水准，但就整体实力而言，中国半导体产业还是处于落后位置。

而且，因为存在技术壁垒的缘故，中国半导体公司没有办法与海外企业合作，共同研发新技术，只能一点一点的突破，加大投入力度。目前来看，短期内，其实很难取得亮眼的成绩。

第二：技术储备不足，没有借鉴和参照物

众所周知，我国半导体产业起步本来就比较晚，半导体设备生产和销售，更是在最近几年才逐渐获得重视，与一般产业相比，半导体设备的研发并没有捷径可走，只能通过试错，不断吸取教训，从而积累到经验，获得技术上的进步。只不过，光刻机研发耗费资金巨大，因此很少人坚持下来。

第三：光刻机过于复杂

光刻机制造需要结合整个产业的力量。其实从某种意义上来讲，光刻机并不是一个单一的技术，而是一个技术合集。

目前虽然只有ASML能够制造高端光刻机，但该公司其实只是扮演一个组装者角色，光刻机需要至少10万个部件，很多部件都受到专利保护，即便国内企业拥有高端光刻机制造能力，但也需要借助其他企业帮助才能完成该设备生产，这基本不可能。

当然，如果国产厂商解决了上述三个问题，那么光刻机就将成为我国芯片产业发展过程中的一大推助力，国产芯片未来可期。对此，你怎么看？

来源：数码密探

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